Взаимодействие атомарных потоков водорода с поверхностью твердых тел

Развитие современных технологий привело к тому, что во многих случаях приходится сталкиваться со средами, в которых водород присутствуют не только в молекулярном, но и в атомарном состоянии. Примерами таких сред являются плазменные процессы, микроэлектронные технологии, процессы в термоядерных реакторах, электрохимические процессы, протекающие с выделением водорода, и многие другие. В связи с этим остро ставятся вопросы поведения различных материалов в средах, содержащих атомарный водород. Кроме того, развитие водородной энергетики, все более остро ставит проблемы накопления и хранения водорода. При этом наиболее перспективными считаются твердотельные накопители водорода. Наибольший интерес в данном случае представляют углеродные нанотрубки (УНТ), которые наряду с металлами и жидкостями могут заполняться газообразными веществами и связывать большое его количество.