Ионно-плазменные системы с комбинированными ЕН полями

Изучены процессы возникновения и интегральные характеристики газовых разрядов в устройствах с комбинированными электрическими (постоянным, высокочастотным, потенциальным, вихревым) и магнитными (постоянным, вихревым) полями на базе планарного магнетронного разряда в ускорительном и плазменном режимах, ВЧ- индукционного разряда, комбинированных индукционно-емкостного и индукционно-магнетронного разрядов. Получены аналитические выражения для энергетической цены иона и коэффициент ионизации для ансамбля электронов с различной функцией распределения по энергиям и рассчитаны кривые зажигания и пробоя газового разряда постоянного тока в магнитном поле трех типов. Проведена систематизация процессов генерации и транспортировки ионных потоков в плазменных системах с комбинированными ЕН полями на основе дрейфовой теории, определены общие параметры подобия и закономерности ИПС на основе фундаментальных положений физики газового разряда, низкотемпературной плазмы и законов сохранения частиц, импульса и энергии.