Моделирование ионно-плазменных процессов

В монографии приведены новые теоретические подходы и методы, разработанные авторами при решении ряда прикладных задач физики газоразрядной плазмы. Физическое описание ионно-плазменных процессов дополнено совокупностью методов математического моделирования и приемов их статистического описания. На основе описания движения и взаимодействия отдельных атомных частиц проиллюстрированы общие закономерности явлений в процессе ионно-плазменного распыления. Показано, что закономерности, полученные при моделировании динамики изменения отдельных атомных подсистем, можно обобщить, с применением специальных процедур, на всю исследуемую систему процессов распыления в ионно-плазменной технологии. Проведена корреляция результатов статистического моделирования процессов ионно-плазменного распыления многокомпонентных материалов и экспериментальных исследований при нанесении тонких пленок сложного стехиометрического состава. Монография предназначена для студентов старших курсов физико-технических факультетов, аспирантов и научных сотрудников, специализирующихся в области газоразрядной плазмы и ионно-плазменной технологии.