Химическое осаждение из газовой фазы стеклообразных тонких пленок

Область монографии – полученные методами химического осаждения из газовой фазы (ХОГФ) тонкие неорганические стеклообразные пленки, используемые в технологиях микроэлектроники, микро- и наносистемной техники, оптоэлектроники. На основании объемного экспериментального материала, в том числе полученного лично автором и коллективами под руководством автора, проанализированы процессы ХОГФ и свойства тонких пленок нитрида кремния, диоксида кремния, фосфор- и борсиликатных тонких пленок. Созданы основные представления о кинетике роста пленок при ХОГФ. Установлены количественные критерии и обоснована кинетическая схема процессов ХОГФ, предложены способы оптимизации процессов и аппаратуры ХОГФ. Использованы современные методы исследований структуры, состава и свойств тонких пленок. Предложены схемы строения пленок стекол, изложены подходы к оптимизации тонкопленочных материалов. Выделены основные исторические этапы развития процессов ХОГФ тонких пленок применительно к технологии микроэлектроники, сформулированы задачи и направления дальнейшего развития. Рекомендуется магистрантам и аспирантам технических университетов, исследователям и технологам современных наукоемких производств.