LAP Lambert Academic Publishing ( 25.01.2018 )
€ 84,90
Область монографии – полученные методами химического осаждения из газовой фазы (ХОГФ) тонкие неорганические стеклообразные пленки, используемые в технологиях микроэлектроники, микро- и наносистемной техники, оптоэлектроники. На основании объемного экспериментального материала, в том числе полученного лично автором и коллективами под руководством автора, проанализированы процессы ХОГФ и свойства тонких пленок нитрида кремния, диоксида кремния, фосфор- и борсиликатных тонких пленок. Созданы основные представления о кинетике роста пленок при ХОГФ. Установлены количественные критерии и обоснована кинетическая схема процессов ХОГФ, предложены способы оптимизации процессов и аппаратуры ХОГФ. Использованы современные методы исследований структуры, состава и свойств тонких пленок. Предложены схемы строения пленок стекол, изложены подходы к оптимизации тонкопленочных материалов. Выделены основные исторические этапы развития процессов ХОГФ тонких пленок применительно к технологии микроэлектроники, сформулированы задачи и направления дальнейшего развития. Рекомендуется магистрантам и аспирантам технических университетов, исследователям и технологам современных наукоемких производств.
Детали книги: |
|
ISBN-13: |
978-613-7-32925-2 |
ISBN-10: |
6137329259 |
EAN: |
9786137329252 |
Язык книги: |
Russian |
By (author) : |
Владислав Васильев |
Количество страниц: |
388 |
Опубликовано: |
25.01.2018 |
Категория: |
Электроника, электротехника, коммуникационные технологии |